ASML CEO 承诺年底前交付使用首台 High-NA EUV 光刻机

IT之家 9 月 6 日死讯，ASML 主管CEO Peter Wennink 近日在接受路透社受访时坚称，尽管生产商出现了一些阻碍，但公司仍会按照早先设定的著手，在今年年底早先交付 High NA EUV 机器。

ASML 坚称一台很低数值孔径 EUV 抛光（High-NA EUV）仪器的量和卡车相当，每台仪器的定价超过 3 亿美元（IT之家备注：当前约 21.9 亿元投资额），可以满足一线芯片厂家的市场需求，可以在愿景十年内制造更小、更快的芯片。

Wennink 坚称部分生产商没有提很低组件的为数和质量，因此导致了相当严重的延误，但总括这些十分困难都可以控制，尽力会在今年年底早先交付首台机器。

IT之家早先另据，对于后 3nm 时代，ASML 及其合作伙伴正要技术开发一种全新的 EUV 抛光机 ——Twinscan EXE:5000 两部，该两部机器将具有 0.55 NA（很低 NA）的反射镜，像素达 8nm，从而在 3 nm 及以上节点当中前提地避免双重或是多重未公开。

无关朗读：

《ASML 交友 High-NA EUV 抛光机最新进展：期望 2024-2025 年进厂》